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... 硅(Strained Silicon)、45nm时代的高K金属栅极(HKMG)、22nm时代的FinFET ... 该技术由一类新型的“高K”( Hi-K)电介质材料实现,该材料 ...
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... 。CP2200内部带有2 k字节的发送缓存和4 k字节的接收缓存,还有8 k字节的内部Flash存储器,用于存储 ...
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... 计数脉冲,频率可高达几k到几十k赫兹,可用多种方式接收 ... ,脉冲频率也可达几十k,有了这两种功能, ...
... ,Intel则使用了全新的HI-K介质。相对于之前的介质,新的HI-K介质厚度仅有几个埃( ... .1nm);Intel将采用新HI-K介质构成的栅极称为“超级晶格 ...
... 硅(Strained Silicon)、45nm时代的高K金属栅极(HKMG)、22nm时代的FinFET ... ,该技术由一类新型的“高K”( Hi-K)电介质材料实现,该材料可以 ...
... 芯片没有实现全网通,M T K芯片没有旗舰级,魅族困境 ... 级的芯片很可能是M T K率先出;三星的全网通很 ... 的旗舰机仍然可能是M T K平台。” “虽然有 ...